Elektronische Bauelemente können in 4 Kategorien eingeteilt werden:
Passive Bauelemente = Widerstände, Kondensatoren und Induktivitäten
Aktive Bauelemente = Elektronenröhre, Relais und Transistoren
Verbindungselemente = Kabel, Steckverbindungen und Leiterplatten
Quellen = Spannungsquellen
MOSFET = MetalOxideSemiconductorFieldEffect
Wie ist ein moderner MOS-Transistor aufgebaut?
MOS-Transistor Herausforderungen
Bei Abmessungen < 100 nm müssen quantenmechanische Effekte berücksichtigt werden
-> neue Konzepte/ Materialien notwendig
bsp: Gateoxiddicke mit SiO2 bei dieser Skalierung zu dünn (2-3 Atomschichten)
-> nicht herstellbar -> zu große leckströme (Tunneleffekt)
Material mit höherer Dielektrizitätskonstante (High-K Dielektrika)
-> dickere Gatedielektrika
Bei metallischen Leitern steigt der spezifische Widerstand mit zunehmender Temperatur
Bei intrinsischen Halbleitern sinkt der spezifische Widerstand mit steigender Temperatur
Die Elektrische Leitfähigkeit eines Halbleiters liegt zwischen der von Leitern und Isolatoren
Die Bandlücke eines Halbleiters sorgt für dessen elektrischen Eigenschaften. Diese Bandlücke hat eine begrenzte Breite <3 eV und liegt zwischen Valenzband und Leitungsband.
Durch die Bandlücke in Halbleitern existieren im Gegensatz zu Metallen keine festen Ladungsträger.
Diese enstehen durch:
Energetische Anregung -> z.B thermische Anregung
Fremdatome und Störstellen -> Dotierung
Unter Dotierung versteht man das gezielte Einbringen von Fremdatomen in ein Material. Dadurch kann die Leitfähigkeit beeinflusst werden
Es gibt elementare Halbleiter und Verbindungshalbleiter
PolykristallinesSi + Dotierstoffe werden in einem Quarztiegel geschmolzen
Si Impfkristall wird mit der SiOberfläche kontaktiert
langsames hochziehen des Impfkristalls -> Einkristall mit derselben Kristallorientierung entsteht
Schmelze und Impfkristall werden in unterschiedliche Richtung gedreht
A) Impfkristall
B) Si Ingot
C) Quarztiegel
D) Heizer
E) Vakuumgefäß
F) Graphittiegel
Czoralski Prozess: Tiegelziehen Vor und Nachteile:
+ geringere Kosten
+ Sauerstoffverunreinigungen machen die Wafer mechanischstabiler
-Verunreinigungen durch den Quarztiegel
-Dotierstoffkonzentration variiert entlang des Ingots
Floating Zone Prozess: Zonenziehen
zur Herstellung hochreiner einkristallinerSi Ingots (zylindrische Form)
Heizspule schmilzt unteres Ende des p-Si Stabs durch induktiveHeizung
mögliche Dotierstoffe werden als Gase in Vakuum zugeführt
Si Impfkristall wird mit geschmolzener Si Oberfläche kontaktiert
langsames Herunterziehen mit Rotation des Impfkristalls mit Zuführung des p-Si Stabs in die Schmelzzone -> Wachstum eines Einkristalls mit derselben Kristallorientierung
Zonenziehen:
A) Ar Atmosphäre
B) Vakuum
C) p-Si
D) Dotierstoffgas
E) Induktionsspule
F) Si Ingot
G) Impfkristall
Vor und Nachteile des Zonenziehens
Vorteile:
Hochreine Si Ingots (hoher spezifischer Widerstand)
kann zur weiteren Reinigung und Homogenisierung wiederholt werden
Nachteile:
Langsamer + komplexer -> teuer
Rohmaterial muss als Stab vorliegen
Prozessbedingt nur geringere Durchmesser möglich
Wafergeometrie
Abflachungen (flats) zeigen Kristallorientierung und Dotierstoff an
Hauptflat länger
Nebenflat kürzer
Hauptflat zeigt die <100> Richtung an (für leichtes Spalten entlang dieser Ebene)
größere Wafer (>4 Zoll) haben keine flats sondern Kerben (notches)
Optoelektronische Bauelemente
Halbleiterbauelemente, die elektrische und optische Vorgänge koppeln